Моделирование процесса осаждения покрытия на различные детали проекта ИТЭР
Беликов А.И., Алиханов О.Э., Зайнулин Р.И., Мишкинис А. Р.
Ключевые слова: КОМПЬЮТЕРНОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ, МАГНЕТРОННОЕ НАНЕСЕНИЕ, ПОКРЫТИЕ
Аннотация
Представлена методика выбора оптимальной компоновки технологической системы вакуумной установки магнетронного нанесения покрытий на изделия сложной формы. Для расчета скорости осаждения на участки поверхности изделия и оценки равномерности толщины покрытия на деталях использовалась разработанная авторами программа моделирования процесса магнетронного нанесения покрытий «TFDepositionR». В качестве примера приведены результаты моделирования для деталей с внешней и внутренней резьбовой поверхностью. Выбор оптимальной компоновки осуществлялся на основе таких критериев, как обеспечение требуемых скорости осаждения и равномерности покрытия.Simulation of the coating deposition process on a various parts of the iter project
, O.E.Alikhanov, R.I. Zainullin, A.R. Mishkinis
Keywords: COMPUTER SIMULATION, MAGNETRON SPUTTERING, COATING