Ключевые слова: ионно-плазменные технологии, распыление, остаточные напряжения, ситалл, оксид алюминия, медь, шероховатость

Аннотация

В работе представлены результаты исследования влияния ионной обработки на адгезию пленки Al2O3 к подложке из ситалла и меди к многослоевой структуре Al2O3. Приведены результаты измерения профиля и шероховатости структур на профилометре. Показано, что ионная обработка ситалла в течение 2 минут протравливает поверхностный слой таким образом, что последующее нанесение покрытия Al2O3 толщиной до 50 нм не достигает изначального уровня подложки.

Keywords: ion-plasma technologies, sputtering, residual stresses, sitall, aluminum oxide, copper, roughness

Abstract

The paper presents the results of a study of the effect of ion treatment on the adhesion of an Al2O3 film to a citall substrate and copper to an Al2O3 multilayer structure. The results of measuring the profile and roughness of structures on the profilometer are presented. It is shown that the ion treatment of metal within 2 minutes etches the surface layer in such a way that the subsequent application of an Al2O3 coating with a thickness of up to 50 nm does not reach the initial level of the substrate.