Оптимизация процесса получения фотоннокристаллических масок для наносферной литографии

Жуков Р.М., Ибрагимов А.Р., Панфилова Е.В.
Ключевые слова:

Аннотация

Перспективным способом получения массивов наночастиц и двумерных фотонных кристаллов является наносферная литография. В работе представлены результаты экспериментальных исследований процесса формирования фотоннокристаллического коллоидного слоя, выполняющего роль маски. Наиболее технологичным способом формирования такой структуры является метод вертикального вытягивания подложки из коллоидного раствора. За счет варьирования параметрами раствора и скоростью движения подложки метод позволяет получать фотоннокристаллические пленки с заданными характеристиками. В работе представлены результаты оптимизации процесса формирования пленок.

, ,
Keywords:

Abstract