Вакуумная электронно-лучевая установка
Одиноков В.В., Хошев А.В., Аверьянов Е.В., Костюков Д.А., Овцын А.А.
Ключевые слова: электронно-лучевое испарение, вакуум, тонкие пленки, взрывная фотолитография, оборудование
Аннотация
Разработана новая вакуумная установка (ЭЛУ ТМ 1Ш) с многотигельным электронно-лучевым испарителем (ЭЛИ) и шлюзовой загрузкой групповых подложкодержателей под пластины 100-150 мм. Установка предназначена в основном для нанесения однослойных или многослойных пленок в технологии взрывной фотолитографии.Vacuum unit with electron-beam evaporator
Odinokov V.V., A.V. Khoshev, E.V. Averyanov, D.A. Kostyukov, A.A. Ovtsyn
Keywords: electron beam evaporation, vacuum, thin films, lift-off, equipment